• 半導體製造設備之進出口銷售業務
• 液晶顯示器製造設備之進出口銷售業務
• 前述各項產品之安裝及維修
• 為購買公司產品之客戶辦理操作維護訓練

佳能的半導體製造設備,微影步進機 (Stepper)與 步進掃描機(Scanner) , 主要應用於生產積體電路(IC)產品上. 在晶片(Chip)製造上, 數以萬計的電路層圖案從光罩上成像於矽晶圓上, 經過 "顯影","蝕刻", "清洗","摻雜", "金屬","研磨" ,等製程經過數次重複過程形成積體電路IC. 佳能提供各種製程解析度從350nm 到 90nm以下不同所需的產品設備, 這些設備都可以支援到300mm大小的晶圓.

佳能的液晶顯示器製造設備, 反射式對準成像曝光機(MPA), 藉由大型的反射光學系統以及高速非接觸式線性馬達帶動, 達到高速.高精度的超大型基板 曝光2,200mmx2,500mm, 以全面曝光的方式,一面基板上可以曝出57吋寬螢幕TV用面板x3面, 45吋寬螢幕TV面板x8面, 或是32型寬螢幕TV面板x 18面.

2008年10月1日現在